See veebileht kasutab küpsiseid kasutaja sessiooni andmete hoidmiseks. Veebilehe kasutamisega nõustute ETISe kasutustingimustega. Loe rohkem
Olen nõus

Microstructure optimization of atomic layer deposited chromium containing ternary compound thin films aimed for fabrication of 3D metamaterials

Mahtab Salari Mehr, doktorant, (juh) Hugo Mändar; Taivo Jõgiaas; Lauri Aarik, Microstructure optimization of atomic layer deposited chromium containing ternary compound thin films aimed for fabrication of 3D metamaterials (Aatomkihtsadestatud kroomi sisaldavate tenaarsete ühendite õhukeste kilede mikrostruktuuri optimeerimine 3D metamaterjalide loomiseks), Tartu Ülikool, Loodus- ja täppisteaduste valdkond, füüsika instituut
Mahtab Salari Mehr
doktorikraad
Õpingud pooleli
Ei
30.08.2021
Inglise
Microstructure optimization of atomic layer deposited chromium containing ternary compound thin films aimed for fabrication of 3D metamaterials
Aatomkihtsadestatud kroomi sisaldavate tenaarsete ühendite õhukeste kilede mikrostruktuuri optimeerimine 3D metamaterjalide loomiseks
Microstructure optimization of atomic layer deposited chromium containing ternary compound thin films aimed for fabrication of 3D metamaterials
ETIS klassifikaatorAlamvaldkondCERCS klassifikaator
4. Loodusteadused ja tehnika4.10. FüüsikaP250 Tahke aine: struktuur, termilised ja mehhaanilised omadused, kristallograafia, phase equilibria
4. Loodusteadused ja tehnika4.12. Protsessitehnoloogia ja materjaliteadusT150 Materjalitehnoloogia
4. Loodusteadused ja tehnika4.12. Protsessitehnoloogia ja materjaliteadusT152 Komposiitmaterjalid