See veebileht kasutab küpsiseid kasutaja sessiooni andmete hoidmiseks. Veebilehe kasutamisega nõustute ETISe kasutustingimustega. Loe rohkem
Olen nõus

Atomic layer deposition study of HfO2 thin films

Raul Rammula, magistrikraad (teaduskraad), 2005, (juh) Jaan Aarik; Väino Sammelselg, Atomic layer deposition study of HfO2 thin films, Tartu Ülikool, Füüsika-keemiateaduskond, Materjaliteaduse instituut.
Raul Rammula
magistrikraad (teaduskraad)
Kaitstud
Ei
1.09.2003
2005
Eesti
Atomic layer deposition study of HfO2 thin films
HfO2 kilede aatomkihtkasvu uurimine