ETIS - Atomic layer deposition and characterization of thin oxide films for application in protective coatings

Kirje

Lauri Aarik, doktorikraad, 2017, (juh) Väino Sammelselg, Atomic layer deposition and characterization of thin oxide films for application in protective coatings, Tartu Ülikool, Loodus- ja tehnoloogiateaduskond, Tartu Ülikooli Füüsika Instituut, Materjaliteaduse osakond.

Juhendajad

Väino Sammelselg

Juhendatav või välisjuhendatav Lauri Aarik

Kraad

doktorikraad

Õpingute staatus

Kaitstud

Ekstern

Ei

Õpingute algus

1.01.2012

Õpingute lõpp

5.12.2017

Kaitsmise aasta

2017

Keel

Inglise

Pealkiri originaalkeeles

Atomic layer deposition and characterization of thin oxide films for application in protective coatings

Pealkiri inglise keeles

Täike juhul, kui originaalpealkiri ei ole inglise keeles. Kuvatakse inglisekeelses CVs originaalpealkirja järel sulgudes.

Atomic layer deposition and characterization of thin oxide films for application in protective coatings

Asutused

Tartu Ülikool, Loodus- ja tehnoloogiateaduskond, Tartu Ülikooli Füüsika Instituut, Materjaliteaduse osakond

Valdkonnad ja erialad

ETIS klassifikaator	Alamvaldkond	CERCS klassifikaator
4. Loodusteadused ja tehnika	4.12. Protsessitehnoloogia ja materjaliteadus	T150 Materjalitehnoloogia

Eesti Teadusinfosüsteem

Atomic layer deposition and characterization of thin oxide films for application in protective coatings