See veebileht kasutab küpsiseid kasutaja sessiooni andmete hoidmiseks. Veebilehe kasutamisega nõustute ETISe kasutustingimustega. Loe rohkem
Olen nõus
Aatomkihtsadestamise teenus (NAMUR+)
Aatomkihtsadestamise teenus (NAMUR+), Tallinna Tehnikaülikool, Inseneriteaduskond, Materjali- ja keskkonnatehnoloogia instituut, Ilona Oja Açik.
Teenus
Aatomkihtsadestamise teenus (NAMUR+)
Atomic Layer Deposition

  • {{row.Name}}
Tallinna Tehnikaülikooli Materjali- ja keskkonnatehnoloogia instituudi Keemiliste kiletehnoloogiate teaduslabor pakub võimalust kasutada aatomkihtsadestamise (ALD) seadet tasapinnaliste ja 3D objektide katmisel õhukese, kompaktse ja nanomeeterskaalas kontrollitud paksusega pinnakatetega. ALD seadmel on võimalik sadestada erinevaid metallide sulfiide ja oksisulfiide sisaldavaid pinnakatteid päikesepatareide struktuurides absorber- ja/või puhverkihtide sadestamiseks, samuti rekombinatsioonibarjääride ja/või keemiliste kaitsekihtide sadestamiseks erinevatele struktuurielementidele. Teenused sisaldavad: •konsultatsioone – tellijaga arutatakse läbi nende teaduslik-tehnilised probleemid ja hinnatakse, kas antud metoodikad suudavad pakkuda tellijale huvipakkuvatele probleemidele lahendusi, •katseobjektide valmistamist kvalifitseeritud spetsialistide poolt, •tellitud arendustegevusi, mille käigus töötatakse välja ja/või juurutatakse uusi tehnoloogilisi võtteid, mida antud taristu võimaldab rakendada tellija konkreetsete probleemide lahendamiseks, •tellitud uurimistöid, kus labori spetsialistid koostöös tellijaga lahendavad tellijale huvipakkuvaid keerukamaid teaduslik-tehnilisi probleeme. Korraldame koolitusi materjalide valmistamiseks keemilistel meetoditel.
The Laboratory of Thin Film Chemical Technologies in the Department of Materials and Environmental Technology at Tallinn University of Technology provides the service of using an atomic layer deposition (ALD) technique for coating planar and 3D objects with thin, compact and nanometer scale coatings with controlled thickness. The ALD device has the capability to deposit different metal sulfide and oxysulfide containing coatings for applications in solar cell structures as an absorber material and/or buffer layers, also as recombination barrier layers and/or chemical protective coatings for different structural elements. Services include: •Consultation - scientific technical problems and the applicability of these methods for providing the client with solutions to problems of interest will be discussed with the client, •Preparation of samples by qualified specialists, •Development work, during which novel technological approaches will be developed and/or implemented, which the provided infrastructure can facilitate to solve the specific problems of the client, •Research work, in which laboratory specialists solve complex scientific-technical problems of interest to the client in collaboration with the client. We organize workshops for preparing materials by chemical methods.
ADAPTER; Energia
ADAPTER; Energy
ilona.oja@ttu.ee, 6203369
Eesti teadustaristu teekaardi objekt "Nanomaterjalide tehnoloogiate ja uuringute keskus (NAMUR+)" on kaasrahastatud Euroopa Regionaalarengu Fondist (projektid "Nanomaterjalid - rakendused ja uuringud", 3.2.0304.12-0397, 01.02.2012-31.12.2015 ja "Nanomaterjalide tehnoloogiate ja uuringute keskus", 2014-2020.4.01.16-0123, 01.01.2017 - 31.12.2021 ).