Projektis uuritakse madalatemperatuurilise aatomkihtsadestuse (ALD) meetodi väljatöötamise ja juurutamisega seotud probleeme, et oleks võimalik katta defektivaba, ultraõhukese, tiheda korrosioonitõkke kattega erinevaid metallobjekte, aga ka teisi kuumutustundlikke materjale, näit. orgaanilisi kilesid või polümeere. ALD katted valmistatakse õhukeste metalloksiid- või metallkiledena, aga samuti ka nendest materjalidest nanolaminaatidena, kogupaksusega mitte üle mõnekümne nanomeetri. Seetõttu uuritakse pinnareaktsioonidega seotud protsesse, kasutades mitmeid uusi prekursoreid ja/või uusi tuntud prekursorite kombinatsioone. Samuti uuritakse alusmaterjalide erinevate eeltöötluste ja katete järeltöötluste mõju katete kvaliteedile.
In the project studies on the problems connected with development and introduction of low-temperature atomic layer deposition (ALD) method for depositing of defect-free ultrathin anti-corrosion sealing coatings mainly onto surfaces of different metals but also onto other heat-sensitive substrates, e.g. organic films or polymers. The ALD coatings will be grown by in the form of thin metal oxide layers or metal layers, as well as nanolaminated coatings involving both types of sublayers but with resulting thickness not exceeding several tens of nanometers. For that reason, surface reaction related processes using several new precursors and/or new combinations of known precursors will be examined. The influence of different substrate pre-treatments as well as the post-deposition treatments on the quality of the coatings will be studied.