See veebileht kasutab küpsiseid kasutaja sessiooni andmete hoidmiseks. Veebilehe kasutamisega nõustute ETISe kasutustingimustega. Loe rohkem
Olen nõus

Refractive index gradients in TiO2 thin films grown by atomic layer deposition

Kasikov, A.; Aarik, J.; Mandar, H.; Moppel, M.; Pars, M.; Uustare, T. (2006). Refractive index gradients in TiO2 thin films grown by atomic layer deposition. Journal of Physics D: Applied Physics, 39 (1), 54−60.
ajakirjaartikkel
Kasikov, A.; Aarik, J.; Mandar, H.; Moppel, M.; Pars, M.; Uustare, T.
  • Inglise
Journal of Physics D: Applied Physics
IOP Publishing Ltd
0022-3727
39
1
2006
5460
7
Ilmunud
1.1. Teadusartiklid, mis on kajastatud Web of Science andmebaasides Science Citation Index Expanded, Social Sciences Citation Index, Arts & Humanities Citation Index ja/või andmebaasis Scopus (v.a. kogumikud)
Teadmata
WOS

Viited terviktekstile