See veebileht kasutab küpsiseid kasutaja sessiooni andmete hoidmiseks. Veebilehe kasutamisega nõustute ETISe kasutustingimustega. Loe rohkem
Olen nõus

Influence of thickness and growth temperature on the properties of zirconium oxide films grown by atomic layer deposition on silicon

Kukli, K.; Ritala, M.; Uustare, T.; Aarik, J.; Forsgren, K.; Sajavaara, T.; Leskela, M.; Harsta, A. (2002). Influence of thickness and growth temperature on the properties of zirconium oxide films grown by atomic layer deposition on silicon. Thin Solid Films, 410, 53−60.
ajakirjaartikkel
Kukli, K.; Ritala, M.; Uustare, T.; Aarik, J.; Forsgren, K.; Sajavaara, T.; Leskela, M.; Harsta, A.
  • Inglise
Thin Solid Films
Elsevier Science SA
0040-6090
410
2002
5360
8
Ilmunud
1.1. Teadusartiklid, mis on kajastatud Web of Science andmebaasides Science Citation Index Expanded, Social Sciences Citation Index, Arts & Humanities Citation Index ja/või andmebaasis Scopus (v.a. kogumikud)
Teadmata
WOS

Viited terviktekstile