See veebileht kasutab küpsiseid kasutaja sessiooni andmete hoidmiseks. Veebilehe kasutamisega nõustute ETISe kasutustingimustega. Loe rohkem
Olen nõus

Conformity and structure of titanium oxide films grown by atomic layer deposition on silicon substrates

Jõgi, I.; Pärs, M.; Aarik, J.; Aidla, A.; Laan, M.; Sundqvist, J.; Oberbeck, L.; Heitmann, J.; Kukli, K. (2008). Conformity and structure of titanium oxide films grown by atomic layer deposition on silicon substrates. Thin Solid Films, 516 (15), 4855−4862.10.1016/j.tsf.2007.09.008.
ajakirjaartikkel
Jõgi, I.; Pärs, M.; Aarik, J.; Aidla, A.; Laan, M.; Sundqvist, J.; Oberbeck, L.; Heitmann, J.; Kukli, K.
  • Inglise
Thin Solid Films
0040-6090
516
15
2008
48554862
Ilmunud
1.1. Teadusartiklid, mis on kajastatud Web of Science andmebaasides Science Citation Index Expanded, Social Sciences Citation Index, Arts & Humanities Citation Index, Emerging Sources Citation Index ja/või andmebaasis Scopus (v.a. kogumikud)
Teadmata
WOS

Viited terviktekstile

dx.doi.org/10.1016/j.tsf.2007.09.008