See veebileht kasutab küpsiseid kasutaja sessiooni andmete hoidmiseks. Veebilehe kasutamisega nõustute ETISe kasutustingimustega. Loe rohkem
Olen nõus

Atomic-layer design and properties of Pr-doped HfO2 thin films

Aarik, Lauri; Peetermann, Karmo; Puust, Laurits; Mändar, Hugo; Kikas, Arvo; Sildos, Ilmo; Aarik, Jaan (2021). Atomic-layer design and properties of Pr-doped HfO2 thin films. Journal of Alloys and Compounds, 868, 159100. DOI: 10.1016/j.jallcom.2021.159100.
artikkel ajakirjas
Aarik, Lauri; Peetermann, Karmo; Puust, Laurits; Mändar, Hugo; Kikas, Arvo; Sildos, Ilmo; Aarik, Jaan
  • Inglise
Journal of Alloys and Compounds
09258388
868
2021
159100
Ilmunud
1.1. Teadusartiklid, mis on kajastatud Web of Science andmebaasides Science Citation Index Expanded, Social Sciences Citation Index, Arts & Humanities Citation Index, Emerging Sources Citation Index ja/või andmebaasis Scopus (v.a. kogumikud)
Ei
SCOPUS

Viited terviktekstile

doi.org/10.1016/j.jallcom.2021.159100