See veebileht kasutab küpsiseid kasutaja sessiooni andmete hoidmiseks. Veebilehe kasutamisega nõustute ETISe kasutustingimustega. Loe rohkem
Olen nõus

Atomic layer deposition of monoclinic HfO2 films on graphene

Alles, H.; Aarik, J.; Aidla, A.; Fay, A.; Kozlova, J.; Niilisk, A.; Pärs, M.; Rähn, M.; Wiesner, M.; Hakonen, P.; Sammelselg, V. (2010). Atomic layer deposition of monoclinic HfO2 films on graphene. In: Proceedings of Graphene Week (electronical form): Graphene Week, Maryland, USA, April 19-23, 2010. , W006.
publitseeritud konverentsiettekanne
Alles, H.; Aarik, J.; Aidla, A.; Fay, A.; Kozlova, J.; Niilisk, A.; Pärs, M.; Rähn, M.; Wiesner, M.; Hakonen, P.; Sammelselg, V.
  • Inglise
In: Proceedings of Graphene Week (electronical form)
Graphene Week, Maryland, USA, April 19-23, 2010
2010
W006
Ilmunud
5.2. Konverentsiteesid, mis ei kuulu valdkonda 5.1
Teadmata

Viited terviktekstile