See veebileht kasutab küpsiseid kasutaja sessiooni andmete hoidmiseks. Veebilehe kasutamisega nõustute ETISe kasutustingimustega. Loe rohkem
Olen nõus

Atomic layer deposition of aluminum oxide films on graphene

Rammula, Raul; Aarik, Lauri; Kasikov, Arne; Kozlova, Jekaterina; Kahro, Tauno; Matisen, Leonard; Niilisk, Ahti; Alles, Harry; Aarik, Jaan (2013). Atomic layer deposition of aluminum oxide films on graphene. IOP Conference Series: Materials Science and Engineering, 49, 012014. DOI: 10.1088/1757-899X/49/1/012014.
artikkel ajakirjas
Rammula, Raul; Aarik, Lauri; Kasikov, Arne; Kozlova, Jekaterina; Kahro, Tauno; Matisen, Leonard; Niilisk, Ahti; Alles, Harry; Aarik, Jaan
  • Inglise
Alumiiniumoksiidi kilede aatomkihtsadestamine grafeenile
IOP Conference Series: Materials Science and Engineering
1757-899X
49
2013
012014
Ilmunud
3.1. Artiklid/peatükid lisas loetletud kirjastuste välja antud kogumikes (kaasa arvatud Web of Science Book Citation Index, Web of Science Conference Proceedings Citation Index, Scopus refereeritud kogumikud)
Jah
hybrid
Attribution (CC BY)

Viited terviktekstile

doi.org/10.1088/1757-899X/49/1/012014

Seotud asutused