See veebileht kasutab küpsiseid kasutaja sessiooni andmete hoidmiseks. Veebilehe kasutamisega nõustute ETISe kasutustingimustega. Loe rohkem
Olen nõus

Influence of growth temperature on properties of zirconium dioxide films grown by atomic layer deposition

Kukli, K.; Ritala, M.; Aarik, J.; Uustare, T.; Leskela, M. (2002). Influence of growth temperature on properties of zirconium dioxide films grown by atomic layer deposition. Journal of Applied Physics, 92 (4), 1833−1840.
ajakirjaartikkel
Kukli, K.; Ritala, M.; Aarik, J.; Uustare, T.; Leskela, M.
  • Inglise
Journal of Applied Physics
Amer Inst Physics
0021-8979
92
4
2002
18331840
8
Ilmunud
1.1. Teadusartiklid, mis on kajastatud Web of Science andmebaasides Science Citation Index Expanded, Social Sciences Citation Index, Arts & Humanities Citation Index, Emerging Sources Citation Index ja/või andmebaasis Scopus (v.a. kogumikud)
Teadmata
WOS

Viited terviktekstile