See veebileht kasutab küpsiseid kasutaja sessiooni andmete hoidmiseks. Veebilehe kasutamisega nõustute ETISe kasutustingimustega. Loe rohkem
Olen nõus

A structural study of ZrO2 and HfO2 thin films grown by atomic layer deposition

Niilisk, A.; Aarik, J.; Uustare, T.; Mändar, H.; Tkachev, S.; Manghnani, M. (2005). A structural study of ZrO2 and HfO2 thin films grown by atomic layer deposition. Optical Materials and Applications, 5946: 4th International Conference of Advanced Optical Materials and Devices; Tartu, Estonia; July 4-6, 2004. Ed. Rosental, A. Spie - International Society For Optical Engineering, 59460E-1−59460E-8. (Proceedings of SPIE).
publitseeritud konverentsiettekanne
Niilisk, A.; Aarik, J.; Uustare, T.; Mändar, H.; Tkachev, S.; Manghnani, M.
  • Inglise
Aatomkihtsadestatud ZrO2 ja HfO2 õhukeste kilede struktuuriuuringud
Optical Materials and Applications
Rosental, A.
4th International Conference of Advanced Optical Materials and Devices; Tartu, Estonia; July 4-6, 2004
Spie - International Society For Optical Engineering
0277-786X
0819459534
5946
Proceedings of SPIE
2005
59460E-159460E-8
Ilmunud
3.1. Artiklid/peatükid lisas loetletud kirjastuste välja antud kogumikes (kaasa arvatud Web of Science Book Citation Index, Web of Science Conference Proceedings Citation Index, Scopus refereeritud kogumikud)
Teadmata

Viited terviktekstile