See veebileht kasutab küpsiseid kasutaja sessiooni andmete hoidmiseks. Veebilehe kasutamisega nõustute ETISe kasutustingimustega. Loe rohkem
Olen nõus

Atomic layer chemical vapor deposition of TiO2 - Low temperature epitaxy of rutile and anatase

Schuisky, M.; Harsta, A.; Aidla, A.; Kukli, K.; Kiisler, AA.; Aarik, J. (2000). Atomic layer chemical vapor deposition of TiO2 - Low temperature epitaxy of rutile and anatase. Journal of the Electrochemical Society, 147 (9), 3319−3325.
ajakirjaartikkel
Schuisky, M.; Harsta, A.; Aidla, A.; Kukli, K.; Kiisler, AA.; Aarik, J.
  • Inglise
Journal of the Electrochemical Society
Electrochemical Soc Inc
0013-4651
147
9
2000
33193325
7
Ilmunud
1.1. Teadusartiklid, mis on kajastatud Web of Science andmebaasides Science Citation Index Expanded, Social Sciences Citation Index, Arts & Humanities Citation Index, Emerging Sources Citation Index ja/või andmebaasis Scopus (v.a. kogumikud)
Teadmata
WOS

Viited terviktekstile

Lisainfo

Article
ISI Web of Science