See veebileht kasutab küpsiseid kasutaja sessiooni andmete hoidmiseks. Veebilehe kasutamisega nõustute ETISe kasutustingimustega. Loe rohkem
Olen nõus

Atomic layer growth of epitaxial TiO2 thin films from TiCl4 and H2O on alpha-Al2O3 substrates

Aarik, J.; Aidla, A.; Mandar, H.; Uustare, T.; Schuisky, M.; Harsta, A. (2002). Atomic layer growth of epitaxial TiO2 thin films from TiCl4 and H2O on alpha-Al2O3 substrates. Journal of Crystal Growth, 242, 189−198.
ajakirjaartikkel
Aarik, J.; Aidla, A.; Mandar, H.; Uustare, T.; Schuisky, M.; Harsta, A.
  • Inglise
Journal of Crystal Growth
Elsevier Science BV
0022-0248
242
2002
189198
10
Ilmunud
1.1. Teadusartiklid, mis on kajastatud Web of Science andmebaasides Science Citation Index Expanded, Social Sciences Citation Index, Arts & Humanities Citation Index, Emerging Sources Citation Index ja/või andmebaasis Scopus (v.a. kogumikud)
Teadmata
WOS

Viited terviktekstile