See veebileht kasutab küpsiseid kasutaja sessiooni andmete hoidmiseks. Veebilehe kasutamisega nõustute ETISe kasutustingimustega. Loe rohkem
Olen nõus

Optical properties of crystalline Al2O3 thin films grown by atomic layer deposition

Aarik, J.; Kasikov, A.; Kirm, M.; Lange, S.; Uustare, T.; Mändar, H. (2005). Optical properties of crystalline Al2O3 thin films grown by atomic layer deposition. Proceedings og the Society of Photo-Optical Instrumentation Engineers (SPIE): 4th International Conference on Advanced Optical Materials and Devices, Tartu, Estonia, Jul 06-09, 2004. Toim. Rosental, A. 1−10.
publitseeritud konverentsiettekanne
Aarik, J.; Kasikov, A.; Kirm, M.; Lange, S.; Uustare, T.; Mändar, H.
Proceedings og the Society of Photo-Optical Instrumentation Engineers (SPIE)
Rosental, A.
4th International Conference on Advanced Optical Materials and Devices, Tartu, Estonia, Jul 06-09, 2004
2005
110
Ilmunud
3.1. Artiklid/peatükid lisas loetletud kirjastuste välja antud kogumikes (kaasa arvatud Web of Science Book Citation Index, Web of Science Conference Proceedings Citation Index, Scopus refereeritud kogumikud)
Teadmata

Viited terviktekstile