See veebileht kasutab küpsiseid kasutaja sessiooni andmete hoidmiseks. Veebilehe kasutamisega nõustute ETISe kasutustingimustega. Loe rohkem
Olen nõus

Electron Probe Microanalysis of HfO2 Thin Films on Conductive and Insulating Substrates

Lulla, M.; Asari, J.; Aarik, J.; Kukli, K.; Rammula, R.; Tapper, U.; Kauppinen, E.; Sammelselg, V. (2006). Electron Probe Microanalysis of HfO2 Thin Films on Conductive and Insulating Substrates. Microchimica Acta, 155, 195−198.10.1007/s00604-006-0542-9.
ajakirjaartikkel
Lulla, M.; Asari, J.; Aarik, J.; Kukli, K.; Rammula, R.; Tapper, U.; Kauppinen, E.; Sammelselg, V.
  • Inglise
Microchimica Acta
1436-5073
155
2006
195198
Ilmunud
1.1. Teadusartiklid, mis on kajastatud Web of Science andmebaasides Science Citation Index Expanded, Social Sciences Citation Index, Arts & Humanities Citation Index, Emerging Sources Citation Index ja/või andmebaasis Scopus (v.a. kogumikud)
Teadmata
WOS

Viited terviktekstile

dx.doi.org/10.1007/s00604-006-0542-9