See veebileht kasutab küpsiseid kasutaja sessiooni andmete hoidmiseks. Veebilehe kasutamisega nõustute ETISe kasutustingimustega. Loe rohkem
Olen nõus

Influence of structure development on atomic layer deposition of TiO2 thin films

Aarik, J.; Karlis, J.; Mandar, H.; Uustare, T.; Sammelselg, V. (2001). Influence of structure development on atomic layer deposition of TiO2 thin films. Applied Surface Science, 181, 339−348.
ajakirjaartikkel
Aarik, J.; Karlis, J.; Mandar, H.; Uustare, T.; Sammelselg, V.
  • Inglise
Applied Surface Science
Elsevier Science BV
0169-4332
181
2001
339348
10
Ilmunud
1.1. Teadusartiklid, mis on kajastatud Web of Science andmebaasides Science Citation Index Expanded, Social Sciences Citation Index, Arts & Humanities Citation Index ja/või andmebaasis Scopus (v.a. kogumikud)
Teadmata
WOS

Viited terviktekstile

Lisainfo

Article
ISI Web of Science