See veebileht kasutab küpsiseid kasutaja sessiooni andmete hoidmiseks. Veebilehe kasutamisega nõustute ETISe kasutustingimustega. Loe rohkem
Olen nõus

Ultrathin TiO2 films deposited by atomic layer chemical vapor deposition

Schuisky, M.; Kukli, K.; Aidla, A.; Aarik, J.; Ludvigsson, M.; Hårsta, A. (2000). Ultrathin TiO2 films deposited by atomic layer chemical vapor deposition. In: Allendorf, M.D.; Besmann, T.M. (Ed.). Chemical Vapor Deposition (637−644).. Electrochemical Soc Inc. (Electrochemical Society Proceedings; PV 2000-13).
kogumikuartikkel/peatükk raamatus/kogumikus
Schuisky, M.; Kukli, K.; Aidla, A.; Aarik, J.; Ludvigsson, M.; Hårsta, A.
  • Inglise
Chemical Vapor Deposition
Allendorf, M.D.; Besmann, T.M.
Electrochemical Soc Inc
CVD XV
Electrochemical Society Proceedings
PV 2000-13
2000
637644
Ilmunud
3.1. Artiklid/peatükid lisas loetletud kirjastuste välja antud kogumikes (kaasa arvatud Web of Science Book Citation Index, Web of Science Conference Proceedings Citation Index, Scopus refereeritud kogumikud)
Teadmata

Viited terviktekstile

Lisainfo