See veebileht kasutab küpsiseid kasutaja sessiooni andmete hoidmiseks. Veebilehe kasutamisega nõustute ETISe kasutustingimustega. Loe rohkem
Olen nõus

Atomic layer deposition and characterization of HfO2 films on noble metal film substrates

Kukli, K.; Aaltonen, T.; Aarik, J.; Lu, J.; Ritala, M.; Ferrari, S.; Harsta, A.; Leskela, M. (2005). Atomic layer deposition and characterization of HfO2 films on noble metal film substrates. Journal of the Electrochemical Society, 152 (7), F75−F82.
ajakirjaartikkel
Kukli, K.; Aaltonen, T.; Aarik, J.; Lu, J.; Ritala, M.; Ferrari, S.; Harsta, A.; Leskela, M.
  • Inglise
Journal of the Electrochemical Society
Electrochemical Soc Inc
0013-4651
152
7
2005
F75F82
8
Ilmunud
1.1. Teadusartiklid, mis on kajastatud Web of Science andmebaasides Science Citation Index Expanded, Social Sciences Citation Index, Arts & Humanities Citation Index ja/või andmebaasis Scopus (v.a. kogumikud)
Teadmata
WOS

Viited terviktekstile