See veebileht kasutab küpsiseid kasutaja sessiooni andmete hoidmiseks. Veebilehe kasutamisega nõustute ETISe kasutustingimustega. Loe rohkem
Olen nõus

Atomic layer deposition of iron oxide thin films and nanotubes using ferrocene and oxygen as precursors

Rooth, M.; Johansson, A.; Kukli, K.; Aarik, J.; Boman, M.; Hårsta, A. (2008). Atomic layer deposition of iron oxide thin films and nanotubes using ferrocene and oxygen as precursors. Chemical Vapor Deposition, 14, 67−70.10.1002/cvde.200706649.
ajakirjaartikkel
Rooth, M.; Johansson, A.; Kukli, K.; Aarik, J.; Boman, M.; Hårsta, A.
  • Inglise
Chemical Vapor Deposition
0948-1907
14
2008
6770
Ilmunud
1.1. Teadusartiklid, mis on kajastatud Web of Science andmebaasides Science Citation Index Expanded, Social Sciences Citation Index, Arts & Humanities Citation Index ja/või andmebaasis Scopus (v.a. kogumikud)
Teadmata
WOS

Viited terviktekstile

dx.doi.org/10.1002/cvde.200706649