See veebileht kasutab küpsiseid kasutaja sessiooni andmete hoidmiseks. Veebilehe kasutamisega nõustute ETISe kasutustingimustega. Loe rohkem
Olen nõus

On the Mechanism of Atomic Layer Deposition of Aluminium Oxide Films

Aarik, J.; Aidla, A.; Jaek, A.; Kiisler, A.-A. (1993). On the Mechanism of Atomic Layer Deposition of Aluminium Oxide Films. Труды по философии. Tartu Ülikooli toimetised, 964 (19), 4−11.
ajakirjaartikkel
Aarik, J.; Aidla, A.; Jaek, A.; Kiisler, A.-A.
  • Inglise
Труды по философии. Tartu Ülikooli toimetised
0494-7304;0207-4427
964
19
Proceedings on Electroluminescence
1993
411
Ilmunud
3.2. Artiklid/peatükid lisas mitte loetletud kirjastuste välja antud kogumikes
Teadmata

Viited terviktekstile

Lisainfo