See veebileht kasutab küpsiseid kasutaja sessiooni andmete hoidmiseks. Veebilehe kasutamisega nõustute ETISe kasutustingimustega. Loe rohkem
Olen nõus

Engineering structure and properties of hafnium oxide films by atomic layer deposition temperature

Kukli, K.; Aarik, J.; Uustare, T.; Lu, J.; Ritala, M.; Aidla, A.; Pung, L.; Harsta, A.; Leskela, M.; Kikas, A.; Sammelselg, V. (2005). Engineering structure and properties of hafnium oxide films by atomic layer deposition temperature. Thin Solid Films, 479, 1−11.
ajakirjaartikkel
Kukli, K.; Aarik, J.; Uustare, T.; Lu, J.; Ritala, M.; Aidla, A.; Pung, L.; Harsta, A.; Leskela, M.; Kikas, A.; Sammelselg, V.
  • Inglise
Thin Solid Films
Elsevier Science SA
0040-6090
479
2005
111
11
Ilmunud
1.1. Teadusartiklid, mis on kajastatud Web of Science andmebaasides Science Citation Index Expanded, Social Sciences Citation Index, Arts & Humanities Citation Index ja/või andmebaasis Scopus (v.a. kogumikud)
Teadmata
WOS

Viited terviktekstile