See veebileht kasutab küpsiseid kasutaja sessiooni andmete hoidmiseks. Veebilehe kasutamisega nõustute ETISe kasutustingimustega. Loe rohkem
Olen nõus

Chemical resistance of thin film materials based on metal oxides grown by atomic layer deposition

Sammelselg, V.; Netšipailo, I.; Aidla, A.; Tarre, A.; Aarik, L.; Asari, J.; Ritslaid, P.; Aarik, J. (2013). Chemical resistance of thin film materials based on metal oxides grown by atomic layer deposition. Thin Solid Films, 542, 219−224. DOI: 10.1016/j.tsf.2013.06.079.
artikkel ajakirjas
Sammelselg, V.; Netšipailo, I.; Aidla, A.; Tarre, A.; Aarik, L.; Asari, J.; Ritslaid, P.; Aarik, J.
  • Inglise
Thin Solid Films
0040-6090
542
2013
219224
Ilmunud
1.1. Teadusartiklid, mis on kajastatud Web of Science andmebaasides Science Citation Index Expanded, Social Sciences Citation Index, Arts & Humanities Citation Index, Emerging Sources Citation Index ja/või andmebaasis Scopus (v.a. kogumikud)
Ei
WOS

Viited terviktekstile

doi.org/10.1016/j.tsf.2013.06.079