See veebileht kasutab küpsiseid kasutaja sessiooni andmete hoidmiseks. Veebilehe kasutamisega nõustute ETISe kasutustingimustega. Loe rohkem
Olen nõus

Atomic layer deposition of TiO2 from TiCl4 and O3

Aarik, Lauri; Arroval, Tõnis; Rammula, Raul; Mändar, Hugo; Sammelselg, Väino; Aarik, Jaan (2013). Atomic layer deposition of TiO2 from TiCl4 and O3. Thin Solid Films, 542, 100−107. DOI: 10.1016/j.tsf.2013.06.074.
artikkel ajakirjas
Aarik, Lauri; Arroval, Tõnis; Rammula, Raul; Mändar, Hugo; Sammelselg, Väino; Aarik, Jaan
  • Inglise
Thin Solid Films
0040-6090
542
2013
100107
Ilmunud
1.1. Teadusartiklid, mis on kajastatud Web of Science andmebaasides Science Citation Index Expanded, Social Sciences Citation Index, Arts & Humanities Citation Index, Emerging Sources Citation Index ja/või andmebaasis Scopus (v.a. kogumikud)
Ei
WOS

Viited terviktekstile

doi.org/10.1016/j.tsf.2013.06.074