See veebileht kasutab küpsiseid kasutaja sessiooni andmete hoidmiseks. Veebilehe kasutamisega nõustute ETISe kasutustingimustega. Loe rohkem
Olen nõus

Atomic Layer Deposition and Characterization of Dysprosium-Doped Zirconium Oxide Thin Films

Tamm, A.; Kozlova, J.; Arroval, T.; Aarik, L.; Ritslaid, P.; Garcıa, H.; Castan, H.; Duenas, S.; Kukli, K.; Aarik, J. (2015). Atomic Layer Deposition and Characterization of Dysprosium-Doped Zirconium Oxide Thin Films. Chemical Vapor Deposition, 21, 181−187. DOI: 10.1002/cvde.201507170.
artikkel ajakirjas
Tamm, A.; Kozlova, J.; Arroval, T.; Aarik, L.; Ritslaid, P.; Garcıa, H.; Castan, H.; Duenas, S.; Kukli, K.; Aarik, J.
  • Inglise
Dy dopeeritud ZrO2 aatomkihtsadestatud kilede karakteriseerimine
Chemical Vapor Deposition
21
2015
181187
Ilmunud
1.1. Teadusartiklid, mis on kajastatud Web of Science andmebaasides Science Citation Index Expanded, Social Sciences Citation Index, Arts & Humanities Citation Index, Emerging Sources Citation Index ja/või andmebaasis Scopus (v.a. kogumikud)
Ei
WOS

Viited terviktekstile

dx.doi.org/10.1002/cvde.201507170