See veebileht kasutab küpsiseid kasutaja sessiooni andmete hoidmiseks. Veebilehe kasutamisega nõustute ETISe kasutustingimustega. Loe rohkem
Olen nõus

Phase transformations in hafnium dioxide thin films grown by atomic layer deposition at high temperatures

Aarik, J.; Aidla, A.; Mandar, H.; Uustare, T.; Kukli, K.; Schuisky, M. (2001). Phase transformations in hafnium dioxide thin films grown by atomic layer deposition at high temperatures. Applied Surface Science, 173, 15−21.
ajakirjaartikkel
Aarik, J.; Aidla, A.; Mandar, H.; Uustare, T.; Kukli, K.; Schuisky, M.
  • Inglise
Applied Surface Science
Elsevier Science BV
0169-4332
173
2001
1521
7
Ilmunud
1.1. Teadusartiklid, mis on kajastatud Web of Science andmebaasides Science Citation Index Expanded, Social Sciences Citation Index, Arts & Humanities Citation Index, Emerging Sources Citation Index ja/või andmebaasis Scopus (v.a. kogumikud)
Teadmata
WOS

Viited terviktekstile

Lisainfo

Article
ISI Web of Science