See veebileht kasutab küpsiseid kasutaja sessiooni andmete hoidmiseks. Veebilehe kasutamisega nõustute ETISe kasutustingimustega. Loe rohkem
Olen nõus

NO oxidation by dielectric barrier discharge and catalyst: effect of temperature and water vapor

Jõgi, I.; Bichevin, V.; Sabre, V.; Haljaste, A. ; Laan, M.; Käämbre, H. (2010). NO oxidation by dielectric barrier discharge and catalyst: effect of temperature and water vapor. Contributed Papers, 2: Hakone XII: 12th Int Symposium on High Pressure, Low Temperature Plasma Chemistry. , 338−342.
publitseeritud konverentsiettekanne
Jõgi, I.; Bichevin, V.; Sabre, V.; Haljaste, A. ; Laan, M.; Käämbre, H.
  • Inglise
NO oksideerimine barjäärlahenduse ja katalüsaatoriga; temperatuuri ja veeauru mõju
Contributed Papers
Hakone XII: 12th Int Symposium on High Pressure, Low Temperature Plasma Chemistry
9788089186709
2
2010
338342
Ilmunud
3.4. Artiklid/ettekanded, mis on avaldatud valdkonda 3.1. mittekuuluvates konverentsikogumikes
Teadmata

Viited terviktekstile