See veebileht kasutab küpsiseid kasutaja sessiooni andmete hoidmiseks. Veebilehe kasutamisega nõustute ETISe kasutustingimustega. Loe rohkem
Olen nõus

Study of thin oxide films by electron, ion and synchrotron radiation beams

Sammelselg, V.; Rauhala, E.; Arstila, K.; Zakharov, A.; Aarik, J.; Kikas, A.; Karlis, J.; Tarre, A.; Seppala, A.; Asari, J.; Martinson, I. (2002). Study of thin oxide films by electron, ion and synchrotron radiation beams. Mikrochimica Acta, 139, 165−169.
ajakirjaartikkel
Sammelselg, V.; Rauhala, E.; Arstila, K.; Zakharov, A.; Aarik, J.; Kikas, A.; Karlis, J.; Tarre, A.; Seppala, A.; Asari, J.; Martinson, I.
  • Inglise
Mikrochimica Acta
Springer-Verlag Wien
0026-3672
139
2002
165169
5
Ilmunud
1.1. Teadusartiklid, mis on kajastatud Web of Science andmebaasides Science Citation Index Expanded, Social Sciences Citation Index, Arts & Humanities Citation Index, Emerging Sources Citation Index ja/või andmebaasis Scopus (v.a. kogumikud)
Teadmata
WOS

Viited terviktekstile