See veebileht kasutab küpsiseid kasutaja sessiooni andmete hoidmiseks. Veebilehe kasutamisega nõustute ETISe kasutustingimustega. Loe rohkem
Olen nõus

Atomic layer deposition of zirconium oxide from zirconium tetraiodide, water and hydrogen peroxide

Kukli, K.; Forsgren, K.; Aarik, J.; Uustare, T.; Aidla, A.; Niskanen, A.; Ritala, M.; Leskela, M.; Harsta, A. (2001). Atomic layer deposition of zirconium oxide from zirconium tetraiodide, water and hydrogen peroxide. Journal of Crystal Growth, 231, 262−272.
ajakirjaartikkel
Kukli, K.; Forsgren, K.; Aarik, J.; Uustare, T.; Aidla, A.; Niskanen, A.; Ritala, M.; Leskela, M.; Harsta, A.
  • Inglise
Journal of Crystal Growth
Elsevier Science BV
0022-0248
231
2001
262272
11
Ilmunud
1.1. Teadusartiklid, mis on kajastatud Web of Science andmebaasides Science Citation Index Expanded, Social Sciences Citation Index, Arts & Humanities Citation Index, Emerging Sources Citation Index ja/või andmebaasis Scopus (v.a. kogumikud)
Teadmata
WOS

Viited terviktekstile

Lisainfo

Article
ISI Web of Science