See veebileht kasutab küpsiseid kasutaja sessiooni andmete hoidmiseks. Veebilehe kasutamisega nõustute ETISe kasutustingimustega. Loe rohkem
Olen nõus

Dielectric properties of zirconium oxide grown by atomic layer deposition from iodide precursor

Kukli, K.; Forsgren, K.; Ritala, M.; Leskela, M.; Aarik, J.; Harsta, A. (2001). Dielectric properties of zirconium oxide grown by atomic layer deposition from iodide precursor. Journal of the Electrochemical Society, 148 (12), F227−F232.
ajakirjaartikkel
Kukli, K.; Forsgren, K.; Ritala, M.; Leskela, M.; Aarik, J.; Harsta, A.
  • Inglise
Journal of the Electrochemical Society
Electrochemical Soc Inc
0013-4651
148
12
2001
F227F232
6
Ilmunud
1.1. Teadusartiklid, mis on kajastatud Web of Science andmebaasides Science Citation Index Expanded, Social Sciences Citation Index, Arts & Humanities Citation Index, Emerging Sources Citation Index ja/või andmebaasis Scopus (v.a. kogumikud)
Teadmata
WOS

Viited terviktekstile

Lisainfo

Article
ISI Web of Science