See veebileht kasutab küpsiseid kasutaja sessiooni andmete hoidmiseks. Veebilehe kasutamisega nõustute ETISe kasutustingimustega. Loe rohkem
Olen nõus

Transmission electron microscopy studies of HfO2 thin films grown by chloride-based atomic layer deposition

Mitchell, D.R.G.; Aidla, A.; Aarik, J. (2006). Transmission electron microscopy studies of HfO2 thin films grown by chloride-based atomic layer deposition. Applied Surface Science, 253 (2), 606−617.
ajakirjaartikkel
Mitchell, D.R.G.; Aidla, A.; Aarik, J.
  • Inglise
Applied Surface Science
0169-4332
253
2
2006
606617
Ilmunud
1.1. Teadusartiklid, mis on kajastatud Web of Science andmebaasides Science Citation Index Expanded, Social Sciences Citation Index, Arts & Humanities Citation Index, Emerging Sources Citation Index ja/või andmebaasis Scopus (v.a. kogumikud)
Teadmata
WOS

Viited terviktekstile