See veebileht kasutab küpsiseid kasutaja sessiooni andmete hoidmiseks. Veebilehe kasutamisega nõustute ETISe kasutustingimustega. Loe rohkem
Olen nõus

Atomic layer deposition of ZrO2 for graphene-based multilayer structures: In situ and ex situ characterization of growth process

Tamm, Aile; Kozlova, Jekaterina; Aarik, Lauri; Aidla, Aleks; Lu, Jun; Kiisler, Alma-Asta; Kasikov, Aarne; Ritslaid, Peeter; Mändar, Hugo; Hultman, Lars; Sammelselg, Väino; Kukli, Kaupo; Aarik, Jaan (2014). Atomic layer deposition of ZrO2 for graphene-based multilayer structures: In situ and ex situ characterization of growth process. physica status solidi (a), 211 (2), 397−402. DOI: 10.1002/pssa.201330106.
artikkel ajakirjas
Tamm, Aile; Kozlova, Jekaterina; Aarik, Lauri; Aidla, Aleks; Lu, Jun; Kiisler, Alma-Asta; Kasikov, Aarne; Ritslaid, Peeter; Mändar, Hugo; Hultman, Lars; Sammelselg, Väino; Kukli, Kaupo; Aarik, Jaan
  • Inglise
Reaalajaline aatomkiht sadestatud ZrO2 kilede uurimine grafeeni sisaldavatel mitmekihilisetel struktuuridel
physica status solidi (a)
1862-6300
211
2
2014
397402
Ilmunud
1.1. Teadusartiklid, mis on kajastatud Web of Science andmebaasides Science Citation Index Expanded, Social Sciences Citation Index, Arts & Humanities Citation Index, Emerging Sources Citation Index ja/või andmebaasis Scopus (v.a. kogumikud)
Ei
WOS

Viited terviktekstile

doi.org/10.1002/pssa.201330106