See veebileht kasutab küpsiseid kasutaja sessiooni andmete hoidmiseks. Veebilehe kasutamisega nõustute ETISe kasutustingimustega. Loe rohkem
Olen nõus

Chemical deposition routes to HfO2:real-time monitoring and film growth

Forsgren, K.; Harsta, A.; Aarik, J.; Aidla, A. (2001). Chemical deposition routes to HfO2:real-time monitoring and film growth. Electrochemical Society Proceedings, 2001-13. Electrochemical Soc Inc, 152−159.
publitseeritud konverentsiettekanne
Forsgren, K.; Harsta, A.; Aarik, J.; Aidla, A.
  • Inglise
Electrochemical Society Proceedings
Electrochemical Soc Inc
2001-13
2001
152159
Ilmunud
3.4. Artiklid/ettekanded, mis on avaldatud valdkonda 3.1. mittekuuluvates konverentsikogumikes
Teadmata

Viited terviktekstile

Lisainfo