See veebileht kasutab küpsiseid kasutaja sessiooni andmete hoidmiseks. Veebilehe kasutamisega nõustute ETISe kasutustingimustega. Loe rohkem
Olen nõus

Photoelectron spectro-microscopical study of interface layers in hafnia and zirconia thin films deposited on silicon

Sammelselg, V.; Aarik, J.; Kikas, A.; Käämbre, T.; Zakharov, A.; Martinson, I. (2003). Photoelectron spectro-microscopical study of interface layers in hafnia and zirconia thin films deposited on silicon. In: Andersen, J. N.; Johansson, U.; Nyholm, R.; Ullman, H. (Ed.). MAX-lab Activity Report 2002 (72−73).. Lund: Lund University.
kogumikuartikkel/peatükk raamatus/kogumikus
Sammelselg, V.; Aarik, J.; Kikas, A.; Käämbre, T.; Zakharov, A.; Martinson, I.
  • Inglise
MAX-lab Activity Report 2002
Andersen, J. N.; Johansson, U.; Nyholm, R.; Ullman, H.
Lund
Lund University
2003
7273
Ilmunud
3.2. Artiklid/peatükid lisas mitte loetletud kirjastuste välja antud kogumikes
Teadmata

Viited terviktekstile