See veebileht kasutab küpsiseid kasutaja sessiooni andmete hoidmiseks. Veebilehe kasutamisega nõustute ETISe kasutustingimustega. Loe rohkem
Olen nõus

Atomic layer deposition of titanium, zirconium, and hafnium dioxides: growth mechanisms and properties of thin films

Aarik, Jaan (2007). Atomic layer deposition of titanium, zirconium, and hafnium dioxides: growth mechanisms and properties of thin films. (University of Tartu). Tartu: Tartu University Press.
dissertatsioon
Aarik, Jaan
  • Inglise
Titaan- tsirkoonium- ja hafniumdioksiidide aatomkihtsadestamine: kasvumehhanismid ja kilede omadused
University of Tartu
Tartu
Tartu University Press
1406-0647
9789949115426
Dissertationes physicae Universitatis Tartuensis
49
2007
219
Ilmunud
2.3. Dissertatsioonide seerias ilmunud dissertatsioonid (v.a. käsikirjalised);
Teadmata

Viited terviktekstile

Lisainfo