See veebileht kasutab küpsiseid kasutaja sessiooni andmete hoidmiseks. Veebilehe kasutamisega nõustute ETISe kasutustingimustega. Loe rohkem
Olen nõus

Mechanisms of suboxide growth and etching in atomic layer deposition of tantalum oxide from TaCl5 and H2O

Aarik, J.; Kukli, K.; Aidla, A.; Pung, L. (1996). Mechanisms of suboxide growth and etching in atomic layer deposition of tantalum oxide from TaCl5 and H2O. Applied Surface Science, 103 (4), 331−341.
ajakirjaartikkel
Aarik, J.; Kukli, K.; Aidla, A.; Pung, L.
  • Inglise
Applied Surface Science
Elsevier Science BV
0169-4332
103
4
1996
331341
11
Ilmunud
1.1. Teadusartiklid, mis on kajastatud Web of Science andmebaasides Science Citation Index Expanded, Social Sciences Citation Index, Arts & Humanities Citation Index, Emerging Sources Citation Index ja/või andmebaasis Scopus (v.a. kogumikud)
Teadmata
WOS

Viited terviktekstile

Lisainfo

Article
ISI Web of Science