See veebileht kasutab küpsiseid kasutaja sessiooni andmete hoidmiseks. Veebilehe kasutamisega nõustute ETISe kasutustingimustega. Loe rohkem
Olen nõus

Electrodeposition of Amorphous Cobalt Alloy as Barrier Layer for Microelectronics

Shaaban, A.; Abdel Aal, A. (2009). Electrodeposition of Amorphous Cobalt Alloy as Barrier Layer for Microelectronics. 1st international joint conference on Materials science, Nanotechnology and Biotechnology, MNB 09, Cairo, Egypt 2009..
publitseeritud konverentsiettekanne
Shaaban, A.; Abdel Aal, A.
1st international joint conference on Materials science, Nanotechnology and Biotechnology, MNB 09, Cairo, Egypt 2009.
2009
Ilmunud
5.2. Konverentsiteesid, mis ei kuulu valdkonda 5.1
Teadmata

Viited terviktekstile

Lisainfo