See veebileht kasutab küpsiseid kasutaja sessiooni andmete hoidmiseks. Veebilehe kasutamisega nõustute ETISe kasutustingimustega. Loe rohkem
Olen nõus

Influence of process parameters on atomic layer deposition of ZrO2 thin films from CpZr(NMe2)3 and H2O

Aarik, Lauri; Alles, Harry; Aidla, Aleks; Kahro, Tauno; Kukli, Kaupo; Niinistö, Jaakko; Mändar, Hugo; Tamm, Aile; Rammula, Raul; Sammelselg, Väino; Aarik, Jaan (2014). Influence of process parameters on atomic layer deposition of ZrO2 thin films from CpZr(NMe2)3 and H2O. Thin Solid Films, 565, 37−44. DOI: 10.1016/j.tsf.2014.06.052.
artikkel ajakirjas
Aarik, Lauri; Alles, Harry; Aidla, Aleks; Kahro, Tauno; Kukli, Kaupo; Niinistö, Jaakko; Mändar, Hugo; Tamm, Aile; Rammula, Raul; Sammelselg, Väino; Aarik, Jaan
  • Inglise
Thin Solid Films
0040-6090
565
2014
3744
Ilmunud
1.1. Teadusartiklid, mis on kajastatud Web of Science andmebaasides Science Citation Index Expanded, Social Sciences Citation Index, Arts & Humanities Citation Index, Emerging Sources Citation Index ja/või andmebaasis Scopus (v.a. kogumikud)
Ei
WOS

Viited terviktekstile

doi.org/10.1016/j.tsf.2014.06.052