See veebileht kasutab küpsiseid kasutaja sessiooni andmete hoidmiseks. Veebilehe kasutamisega nõustute ETISe kasutustingimustega. Loe rohkem
Olen nõus

Characterization of Ar/N2/H2 middle-pressure RF discharge and application of the afterglow region for nitridation of GaAs

Raud, J.; Jõgi, I.; Matisen, L.; Navratil, Z.; Tavliste, R.; Trunec, D.; Aarik, J. (2017). Characterization of Ar/N2/H2 middle-pressure RF discharge and application of the afterglow region for nitridation of GaAs. Journal of Physics D: Applied Physics, 50, 505201.10.1088/1361-6463/aa9635.
ajakirjaartikkel
Raud, J.; Jõgi, I.; Matisen, L.; Navratil, Z.; Tavliste, R.; Trunec, D.; Aarik, J.
  • Inglise
Keskmistel rõhkudel töötava Ar/N2/H2 raadiosagedusliku plasma karakteriseerimine ja järelhelendusregiooni rakendamine GaAs nitriitimiseks
Journal of Physics D: Applied Physics
1361-6463
50
2017
505201
Ilmunud
1.1. Teadusartiklid, mis on kajastatud Web of Science andmebaasides Science Citation Index Expanded, Social Sciences Citation Index, Arts & Humanities Citation Index, Emerging Sources Citation Index ja/või andmebaasis Scopus (v.a. kogumikud)
Teadmata
WOS

Viited terviktekstile

doi.org/10.1088/1361-6463/aa9635

Seotud asutused

Masaryk University, Department of Physical Electronics

Lisainfo

Article