See veebileht kasutab küpsiseid kasutaja sessiooni andmete hoidmiseks. Veebilehe kasutamisega nõustute ETISe kasutustingimustega. Loe rohkem
Olen nõus

XPS and AFM investigation of hafnium dioxide thin films prepared by atomic layer deposition on silicon

Sammelselg, V.; Rammula, R.; Aarik, J.; Kikas, A.; Kooser, K.; Käämbre, T. (2007). XPS ad AFM investigation of hafnium dioxide thin films prepared by atomic layer deposition on silicon. Journal of Electron Spectroscopy and Related Phenomena, 156, 150−154.dx.doi.org/10.1016/j.elspec.2006.12.070.
ajakirjaartikkel
Sammelselg, V.; Rammula, R.; Aarik, J.; Kikas, A.; Kooser, K.; Käämbre, T.
  • Inglise
XPS ad AFM investigation of hafnium dioxide thin films prepared by atomic layer deposition on silicon
Journal of Electron Spectroscopy and Related Phenomena
0368-2048
156
2007
150154
Ilmunud
1.1. Teadusartiklid, mis on kajastatud Web of Science andmebaasides Science Citation Index Expanded, Social Sciences Citation Index, Arts & Humanities Citation Index, Emerging Sources Citation Index ja/või andmebaasis Scopus (v.a. kogumikud)
Teadmata
WOS

Viited terviktekstile

dx.doi.org/dx.doi.org/10.1016/j.elspec.2006.12.070